記者孫曜樟／台北報導
台灣半導體龍頭台積電爆發二奈米製程技術外洩事件，高檢署智財分署指揮調查局單位，拘提涉案陳姓、吳姓、戈姓三工程師，複訊後依涉嫌違反國家安全法涉及國家核心關鍵技術營業秘密罪，向智慧財產及商業法院聲請羈押禁見獲准。三人不服提起抗告，最高法院裁定駁回，羈押禁見確定。
本案起於台積電主動發現在職員工檔案接觸異常，經內部調查，懷疑二奈米製程等國家核心關鍵技術遭前員工與現職員工非法取得，遂向司法機關提告。檢方指揮法務部調查局新竹市調查站、資訊安全工作站及北部機動工作站，於今年七月二十五日至二十八日期間兵分多路搜索涉案人員住居所、工作場所及東京威力科創新竹辦公室，並查扣電磁紀錄與雲端資料。
調查顯示，陳、戈兩人為台積電離職員工，吳則是仍在職。陳離職後進入與台積電長期合作的日本半導體設備製造商ＴＥＬ台灣子公司擔任設備工程師，涉嫌與吳、戈合作，利用遠端居家辦公機會，由吳、戈使用公司筆電登入台積電內網，陳則在旁以手機翻拍螢幕內的二奈米製程技術圖檔。台積電表示，因公司建立監控機制及早發現異常，已立即懲處違規人員並採取法律行動。
東京威力科創也發表聲明，指涉案員工已遭解僱，目前未發現公司機密外洩，並承諾全力配合台灣司法調查。檢方指出，此為民國一一一年國家安全法修法將國家核心關鍵技術納管後，首宗非法取得相關營業秘密案件。二奈米製程被視為現階段全球最先進晶片製造工藝，開發難度高且投入成本龐大，一旦外洩，恐對台灣半導體產業與國家安全造成重大衝擊。