記者孫曜樟／台北報導
前台積電良率部門工程師陳力銘、在職工程師吳秉駿及戈一平涉嫌將台積電二奈米先進製程關鍵技術與營業秘密外洩給半導體設備商東京威力科創，案經高檢署智慧財產檢察分署起訴並移審智慧財產及商業法院。由於首輪延長羈押期限屆滿，合議庭於日前評議後認為，被告三人涉犯情節重大且危及國家整體安全，裁定自二月一日起再次延長羈押禁見二個月，僅准許與配偶及直系血親會面。
檢方調查顯示，陳力銘於民國一一二年下半年從台積電跳槽至東京威力科創擔任行銷經理。陳嫌疑因面臨績效壓力，且為協助東京威力爭取台積電二奈米製程蝕刻站點的設備供應商資格，竟利用昔日同事情誼，於民國一一二年至一一四年間，多次要求 台積電在職員工吳秉駿、戈一平提供關鍵機密。被告三人約在餐廳、會議室或私人住處見面，由吳、戈二人違規攜帶公司配發之筆記型電腦並登入內部系統，再由陳力銘持手機翻拍列為「Security B」或「Security C」等級的國家核心關鍵技術資料。
起訴書指出，陳力銘獲取機密後，將製程實驗結果等資訊輸入東京威力的工作日誌，以此作為改善蝕刻機台表現的依據，意圖使東京威力通過台積電的測試鑑定。然而，東京威力在二奈米製程最終測試中並未過關，導致相關訂單流失。檢調於民國一一四年七月發動搜索後，於同年八月依據《國家安全法》國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪及《營業秘密法》起訴三人。其中，檢方認為陳力銘主導犯罪且嚴重危害產業發展，建請法院從重處以有期徒刑十四年。
此案後續發展牽連甚廣，高檢署於民國一一四年底至一一五年初陸續發動追加起訴。檢方認為東京威力公司未盡督導之責防止員工犯罪，依國安法追加起訴該公司並求處新台幣一億二千萬元罰金；另查出台積電工程師陳韋傑也涉嫌參與重製技術，以及東京威力高階主管盧怡尹涉嫌在案發後刪除資料滅證，均已一併列為被告。
目前全案由智商法院同一合議庭審理中，被告三人因仍有串證與逃亡之虞，將在看守所內度過接下來的兩個月羈押期。