記者孫曜樟／台北報導
智慧財產及商業法院審理台積電兩奈米製程關鍵技術洩密案，五日裁定在押被告、台積電在職工程師吳秉駿與戈一平，分別以新台幣三百萬元及二百萬元交保，並限制住居、出境、出海，且須接受電子腳鐐等科技設備監控。目前全案仍有離職轉任供應商的陳姓工程師在押。
全案源於台灣高檢署智慧財產檢察分署調查，曾任台積電十二廠良率部門工程師的陳力銘，離職後進入半導體設備供應商「東京威力科創股份有限公司」行銷部門。檢方起訴指出，陳力銘於一一二年下半年至一一四年的上半年間，為協助東京威力爭取成為台積電兩奈米製程蝕刻站點的更多設備供應商資格，多次利用舊誼，要求仍在台積電任職的學弟吳秉駿、戈一平提供關鍵技術與營業秘密。而吳、戈二人涉嫌將公司內部機密檔案拍攝重製後交付，供東京威力檢討改善其蝕刻機台表現。
智財分署於一一四年七月指揮調查局發動搜索約談，隨後聲押陳、吳、戈三人獲准。同年八月二十七日，檢方依違反《營業秘密法》之意圖域外使用而竊取營業秘密罪、竊取營業秘密罪，以及《國家安全法》之國家核心關鍵技術營業秘密域外使用罪將三人起訴，並具體求處陳力銘有期徒刑十四年、吳秉駿九年、戈一平七年。此技術因涉及「十四奈米以下製程的IC製造技術」，被政府認定為國家核心關鍵技術。
全案移審後，法院數度裁定延長羈押。直至五日，合議庭審酌現階段卷證及各方意見後，認為吳、戈二人雖犯罪嫌疑重大，但已無繼續羈押之必要，所以裁定交保。為確保後續訴訟進行，法院課以嚴格保釋條件，包括限制住居至今年八月、每日特定時段不得離開住居處所一百公尺、須按時以個案手機拍攝面部與門牌回傳，且一週內須交付護照給法院。兩人也被禁止與同案被告有任何接觸或探詢案情之行為。
此洩密案不僅涉及個人刑責，檢方也於日前依相同法條追加起訴東京威力科創在台子公司，並求處罰金新台幣一億二千萬元。