記者孫曜樟/台北報導
涉及台積電兩奈米製程等國家核心關鍵技術外洩案，離職工程師陳力銘、在職工程師吳秉駿與戈一平遭檢方起訴後，智慧財產及商業法院於二十五日裁定，由於三人對於犯罪情節供詞前後不一、避重就輕，且案發後有刪除通訊紀錄等滅證之虞，為確保後續審判順利，裁定三人自十二月一日起延長羈押禁見二個月。
全案緣於台灣積體電路製造股份有限公司（台積電）發覺內部資料異常，經調查懷疑有員工非法取得機密，於今年七月八日提告。台灣高檢署智慧財產檢察分署指揮調查局於七月下旬發動搜索約談，並於八月二十七日依違反《營業秘密法》及《國家安全法》起訴三人。
檢方指出，陳力銘自台積電離職後轉任半導體設備供應商東京威力科創公司，為替新東家爭取兩奈米製程蝕刻機台訂單，於一一二年下半年至今年上半年間，多次要求台積電工程師吳秉駿、戈一平提供相關製程與機台表現之關鍵技術數據。
檢方調查發現，吳、戈等人涉嫌違規在公司內拍攝重製含核心關鍵技術的螢幕畫面與檔案傳送給陳力銘。檢方考量犯罪情節重大，具體求處陳力銘有期徒刑十四年、吳秉駿九年、戈一平七年。智慧財產及商業法院於九月一日首度裁定三人羈押禁見三個月，期間被告雖提起抗告，但遭最高法院駁回確定。
法院二十五日裁定指出，雖然三名被告在訊問時坦承犯行，但在具體犯罪手段、目的及細節上，供述內容前後矛盾且避重就輕。此外，檢察官當庭表示，目前仍持續追查東京威力科創公司等涉案共犯。法官審酌被告三人曾為同事，關係密切，且在案發後均有刪除通訊軟體對話紀錄的行為，足認有勾串共犯及湮滅證據之事實。
裁定書強調，本案涉及技術屬國家核心關鍵技術，不僅影響個別企業利益，更危及國家整體安全與產業競爭秩序。由於全案尚需勾稽比對大量數位證據及釐清共犯供述，若給予具保或限制住居，不足以確保審判及未來刑罰執行程序進行，原羈押原因仍然存在。因此，法院裁定三人自一一四年十二月一日起延長羈押二個月，並禁止接見、通信。