記者孫曜樟∕台北報導
智慧財產及商業法院二十七日針對台積電前工程師陳力銘等四人涉嫌洩漏二奈米先進製程國家核心關鍵技術案進行一審宣判。主嫌陳力銘遭判處有期徒刑十年，其餘在職與離職工程師分別判處六年、三年與二年徒刑；涉案的日商東京威力科創公司則被判罰金一億五千萬元，全案均可上訴。東京威力科創也成為首例依《國安法》起訴並判決有罪的法人公司。
判決指出，陳力銘曾任職於台積電十二廠良率部門，民國一一二年離職後轉往東京威力科創行銷部服務。陳男為協助東京威力爭取台積電二奈米製程蝕刻站點的量產機台資格，自一一二年下半年起至一一四年上半年間，多次唆使當時仍在職的台積電工程師吳秉駿、戈一平提供內部關鍵技術與營業秘密。相關人員透過拍攝及重製手段，將技術資料外流，供東京威力檢討改善蝕刻機台表現，嚴重侵害台積電商譽與競爭力。
台積電於一一四年七月間透過內部調查發覺異常，隨即向司法機關提告。檢調單位於同年七月底發動搜索並羈押相關主嫌。智慧財產檢察分署調查發現，外洩內容涵蓋國家科學及技術委員會公告之國家核心關鍵技術，即「十四奈米以下製程之ＩＣ製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」。檢方隨後於一一四年八月及一一五年一月分兩波起訴涉案的陳力銘、吳秉駿、戈一平及陳韋傑與法人東京威力科創，認定被告等人涉犯營業秘密法意圖域外使用罪及國家安全法。
智財法院經審理，在二十七日上午十一時進行宣判，主嫌陳力銘判處十年徒刑、吳秉駿三年、戈一平二年、陳韋傑六年、東京威力科創行銷主管盧怡尹十個月緩刑三年，並向公庫支付一百萬元，且須接受法治教育六場次。東京威力罰金一點五億元，緩刑三年，緩刑條件為支付台積電一億元並繳交國庫五千萬元。
法院認定，台積電二奈米製程技術攸關我國半導體產業競爭力，更屬國家戰略等級核心技術，被告等人為個人利益及企業競爭需求，非法竊取並意圖使用，嚴重危害產業發展與國安利益，本案為國安法有關竊取國家核心關鍵技術相關條文修法後判決首例，全案也成為台灣科技業營業秘密保護指標案件。
記者陳建興∕台北報導
台積電二奈米洩密案，智慧財產及商業法院二十七日判處ＴＥＬ旗下東京威力科創罰金一億五千萬元，緩刑三年，支付台積電一億元、支付公庫五千萬元。ＴＥＬ表示，ＴＥＬ及東京威力科創皆未組織性介入，相關機密資訊也無外流情事。