記者孫曜樟／台北報導
智慧財產及商業法院審理台積電二奈米製程營業秘密外洩案，離職工程師陳力銘被控為協助東京威力爭取供貨，勾結在職工程師竊取關鍵技術，一審依違反國家安全法及營業秘密法等罪判處十年徒刑，陳韋傑判六年，最高法院於三十日駁回陳力銘、陳韋傑上訴，全案定讞，二人現均羈押中將發監執行。
全案起於高檢署智慧財產分署偵辦，陳力銘於民國一一二年至一一四年間，自台積電離職轉任東京威力後，為提升蝕刻機台表現以爭取二奈米製程量產資格，多次要求吳秉駿、戈一平提供機密，並以翻拍重製方式取得資料。
檢方另查出東京威力硬碟存有「十四奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」等屬國家核心關鍵技術之營業秘密，追加起訴陳韋傑等人。一一四年八月二十七日檢方依國安法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用等罪起訴，並追加起訴東京威力公司未盡監督之責。
智慧財產及商業法院於今年四月二十七日宣判，認定陳力銘犯一般侵害營業秘密意圖域外使用罪等五罪，應執行十年；吳秉駿犯一般及國安營業秘密意圖域外使用罪判三年；戈一平犯國安營業秘密意圖域外使用罪判二年；陳韋傑犯同罪判六年。東京威力公司判罰金一億五千萬元，緩刑三年，應於判決確定一年內支付台積電一億元、公庫五千萬元。員工盧怡尹涉刪除翻拍圖檔犯湮滅刑事證據罪，判十月，緩刑三年，並支付公庫一百萬元及接受法治教育六場次。法院指出本案為國安法有關竊取國家核心關鍵技術修法後判決首例。
檢察官與東京威力公司於一審後均未上訴，吳秉駿、戈一平部分已確定。陳力銘、陳韋傑、盧怡尹提起上訴，最高法院審理後認定原判決認事用法無違誤、量刑妥適，駁回陳力銘、陳韋傑上訴定讞。盧怡尹部分仍由最高法院審理中。法院另說明，東京威力坦承犯行並與台積電達成和解，獲台積電表示原諒，為緩刑宣告之考量因素之一。